未来を創る、メタルスタイリスト
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製品情報Product
絞り込み:主要成分 / Cu（銅）
ガスアトマイズ法により製造した球状粉末で、金属積層造形法に欠かせない流動性を持った金属粉末。積層造形法で創られる導電部品や放熱部品への適用に期待しています。
微細かつ球状の粉末を製造する目的で、旋回水ジェットを用いた高水圧アトマイズ技術を開発し、平均粒子径が小さく凝集が少ない粉末の量産化が可能となりました。
旋回水ジェットにて製造した微細球状の粉末「HWQ」を粉砕処理によりフレーク化した粉末です。
電解化学還元法により得られる微細な銅の粒子に防錆処理を施した次世代型の材料です。
CuC-40は化学還元法で製造した銅粉末です。
超低粗度の両面光沢を特長とする原箔「SV」に独自の微細粗化処理形状を持つ「T4X」処理を施すことで、超低粗度でありながら高い投錨効果を発現。伝送特性、細線加工を重視されるリジッドPCBから、透明性を重視されるFPCまで、幅広い分野で高い性能...
電解銅箔屈指の低粗度箔であるSVに、長期耐熱性に優れた無粗化処理T9DAをプラス。基板から光学用途まで、幅広い分野で高い特性を発揮します。
従来品よりも粗化処理粒子の密度を高めたことで、粗度を上昇させることなく、各種基材に対し高い密着強度の発現を誇る超低粗度銅箔です。密着性のみならず、長期耐熱性、耐薬品性など、基板の信頼性に直結する各種特性においても高い機能性を誇ります。
独自の結晶制御により、加熱後の再結晶化を可能にした電解銅箔です。再結晶後のHDは、タフピッチ銅と同等の屈曲性を誇ります。
タフピッチ銅と同等の屈曲性を誇るHDを更に進化させたHD2に、高周波特性に優れた超低粗度表面粗化処理を施したFCCL用電解銅箔です。銅箔屈指の屈曲性と伝送特性の両立は新時代のFPCに貢献します。
